東京大学大学院工学系・情報理工学系研究科第２０回記者会見研究成果

日　時：　平成18年6月2日（金）　14：00～16：00

場　所：　工学部列品館（本郷キャンパス、正門入ってすぐ左側の建物）
大会議室（1階）

プログラム：

○「高輝度放射光による界面劣化層の特定：夢の磁気デバイス実現に向けて」
　　　　　　 発表者：工学系研究科応用化学専攻教授　尾嶋　正治

○「ナノサイズの分子フラスコにおける特異な化学反応」
　　　　　　 発表者：工学系研究科応用化学専攻教授　藤田　誠

○「二酸化炭素からつくるプラスチック：新しい合成技術」
　　　　　　 発表者：工学系研究科化学生命工学専攻教授　野崎　京子
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
問い合わせ先：

工学部広報室長（教授）堀井秀之
工学系研究科・情報理工学系総務課主査（総務担当）大井　哲
工学部広報室員（講師）組頭　広志
　　　　

高輝度放射光による界面劣化層の特定：夢の磁気デバイス実現に向けて		[PDFファイル467KB]
ナノサイズの分子フラスコにおける特異な化学反応		[PDFファイル375KB]
二酸化炭素からつくるプラスチック：新しい合成技術		[PDFファイル185KB]